مقاله مطالعه عددی لایه نشانی شیمیایی بخار سیلیسیم در محیط پلاسما در word

مقاله مطالعه عددی لایه نشانی شیمیایی بخار سیلیسیم در محیط پلاسما در word دارای 6 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله مطالعه عددی لایه نشانی شیمیایی بخار سیلیسیم در محیط پلاسما در word کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.

این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله مطالعه عددی لایه نشانی شیمیایی بخار سیلیسیم در محیط پلاسما در word،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله مطالعه عددی لایه نشانی شیمیایی بخار سیلیسیم در محیط پلاسما در word :

سال انتشار: 1391
محل انتشار: اولین کنفرانس انتقال حرارت و جرم ایران
تعداد صفحات: 6
چکیده:
لایه نشانی شیمیایی بخار بکمک پلاسما یکی ازپرکاربردترین روش های لایه نشانی است که معمولا دردماهای کمتراز 350درجه سانتیگراد صورت میگیرد دراینروش بجای انرژی گرمایی از ذرات انرژی دار برای انجام واکنش استفاده می شود تالایه نشانی بتوانددردمای پایین و با سرعت قابل قبولی صورتگیرد دراین سیستم توان الکتریکی با ولتاژ نسبتا بالا و درفشارپایین برای یونیزه کردن گاز فراهم می شود که باعث شکستن مولکولهایگاز به الکترونها و یونها می شود درمقاله حاضر لایه نشانی فیلم نازک سیلیکن Si درراکتور PECVD شبیه سازی شده و فرایند تشکیل SI روی زیرلایه مورد بحث و بررسی قرارگرفته است ورودی راکتور گاز سیلان SiH4) بهعنوان گاز اصلی واکنش دهنده می باشد که محیط پلاسما را ایجاد م یکند دراین شبیه سازی محیط گازی را محیطی پیوسته جریان گاز را جریانی آرام و سرعت ورودی گاز را برابربا 0/1 متر برثانیه فرض کردها یمهمچنین ازاثرات تابش صرفنظر نموده و گازها را درمحیط پلاسما ایده آل درنظر میگیریم